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鋁氧化的工藝流程

文章出處:滄州鋁氧化  發(fā)布時間:2021-08-31 08:56

鋁氧化的工藝流程:1上架;水洗;低溫拋光。2磨砂料及磨砂電泳料氧化。3著色料及著色電泳料氧化。
 
二、上料:
1.型材上料前應(yīng)將吊桿接觸面打磨干凈,并按標(biāo)準(zhǔn)支數(shù)上料,其計(jì)算公式:上料支數(shù)=標(biāo)準(zhǔn)電流標(biāo)準(zhǔn)電流密度單支型材面積
2.上架支數(shù)的考慮原則:a、硅機(jī)容量利用率不大于95%;b、電流密度取1.0—1.2A/dm;c、型材形狀和兩支型材之間留必要的間隙;
3.氧化時間的計(jì)算:氧化時間(t)=膜厚K·電流密度K為電解常數(shù),取0.26—0.32,t單位為分鐘;
4.上排時必須按照《型材面積及上排支數(shù)表》規(guī)定的支數(shù)上架;
5.為了便于排液和排氣,上排捆扎時應(yīng)傾斜,傾斜度5°為宜;
6.兩端可超出導(dǎo)電桿10—20mm,最多不得大于50mm。
 
三、低溫拋光工藝
1.低溫拋光槽中低溫拋光劑濃度控制為總酸25—30g/l,最低≥15g/l;
2.拋光槽溫20-30℃不得低于20℃,拋光時間90—200s;
3.提架傾斜,滴凈殘液后,迅速放入清水槽中漂洗,經(jīng)兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化,在水槽中停留時間不應(yīng)大于3分鐘;
4.低溫拋光材料在拋光前不得進(jìn)行其它方式的處理,也不能將其它槽液帶入拋光槽中。